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来源：搜狐科技

在制造业领域，日本企业的实力是数一数二的，生产的产品质量极佳，获得不少好评。近日，有消息称，日本光学设备制造巨头佳能计划在今年3月份推出新型光刻机"FPA-3030i5a"，生产效率和以往的机型相比提升近17%。

谈到光刻机，大家都知道比较有名的是荷兰ASML光刻机，而且近年来先进制程工艺芯片的生产越来越离不开ASML光刻机的使用，只是每年ASML光刻机产能有限，所以不少企业都争着抢购光刻机。如今佳能推出新型光刻机，不知道ASML紧张么？

据了解，此前佳能在光刻机生产方面就积累了不少经验，佳能、尼康和ASML三家厂商在全球半导体光刻机市场上拿下了超90%的市场。曾经尼康和佳能居于龙头地位，不过ASML在EUV工艺方面获得良好发展后，尼康和佳能就渐渐"没落"，一直到现在都未能实现反超，而全球能够生产EUV光刻机的也就只有ASML了。

如今，随着全球对芯片需求量持续增长，半导体设备市场也迎来了新的发展期，存在着很大的红利，有数据显示2019年日本半导体生产设备在全球市场中占31.3%，表现还是很不错的，随着市场红利渐渐显露，佳能、尼康等日企自然不会错过这个机会。

佳能此次计划推出新型光刻机就是希望通过推进多种半导体的战略来抢占先机，在海外市场中获得更多订单，从而确立自家生产的光刻机在市场中的地位。

其实，佳能如果能够在光刻机领域取得突破对于我国而言也是一件好事，毕竟现在美国从中作梗，中国无法进口ASML光刻机，也无法从台积电等厂商那采购芯片，如果缺少先进芯片，日后中国企业在全球竞争中将会失去优势，目前中国也从日韩厂商那采购芯片，与此同时也在努力研发争取早日实现国产替代。现在佳能推出光刻机，那么我国也可以绕开美国采购佳能的光刻机来生产芯片，从而实现超越。据了解，去年10月中旬，就有消息称不少中资企业打算向尼康、佳能出资，携手来研发EUV以外的新型光刻机。

尽管现在ASML在光刻机领域"一家独大"，但是相信佳能、尼康等日本企业也能够攻克难关，在光刻机领域获得突破。让我们共同期待佳能新型光刻机的到来，也期待国产半导体能够实现新的发展。