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来源：商业经济观察

光刻机是生产制造芯片的主要设备，没有先进的光刻机，自然就无法生产制造先进制程的芯片。

在光刻机厂商中，ASML的技术最为先进，几乎占领了中高端市场，尤其是ASML研发制造的EUV光刻机，其是生产制造Seven 纳米及以下芯片的必要设备。

虽然用DUV光刻机也能够生产制造Seven 纳米，但其存在成本高、工艺复杂以及良品率低等问题，所以在Seven 纳米及以下芯片上，基本上都是采用EUV光刻机。

但EUV光刻机在2015年被研发制造出来以后，其产能一直都比较低，目前才总共出货才100台，并且一半以上都交付了台积电。数据显示，三星也想要更多EUV光刻机，无奈ASML根本无法生产出来，并且，ASML还积压了几十亿欧元的EUV光刻机订单。也就是说，从EUV光刻机被制造出来开始，其就面临供不应求的问题，而且，ASML的产能没有大幅度提升。

但就在近日，外媒传来消息，ASML突然大提速，加速生产制造更多EUV光刻机。

消息称，ASML预计在2021年生产制造45台EUV光刻机，仅后半年就将交付25台；2021年生产制造55台；2022年则是60台。相当于是3年生产160台EUV光刻机。

要知道，在2019年ASML仅生产制造了26台EUV光刻机，而2020年生产制造了30台EUV光刻机，虽然产能也在逐年提升，但产能提升幅度不大。进入2021年后，尤其是进入2021年后半年，ASML才突然提速EUV光刻机的产能，这至少有三方面的含义。

首先，EUV光刻机需求太大了，不提速不行了。

据悉，三星明确表示想要更多EUV光刻机，结果因为ASML产能的问题，其在韩国投资2亿美元建设EUV光刻机再制造工厂。另外，台积电和英特尔都积极扩大芯片产能，尤其是先进制程芯片的产能，这自然需要更多EUV光刻机。再加上，ASML已经积压了几十亿欧元的EUV光刻机订单。

也就是说，巨大的EUV光刻机需求以及积压的订单，已经让ASML不得不提速生产了。

其次，E技术正在普及。

EUV光刻机原本就用于非储存芯片的生产制造，简单就是说用于生产高通、苹果、AMD以及华为海思厂商等Seven芯片及以下制程的芯片。如今，EUV光刻机也开始用于储存芯片的制造，像三星、SK以及海力士等储存芯片企业也开始用EUV光刻机进行制造。

不仅如此，其还将EUV应用层从1提升到5，这就意味着其需要更多的EUV光刻机。关键是，生产5nm等非储存芯片，每个EUV层面仅需要一台EUV光刻机，但生产制造16nm以下的储存芯片，每个EUV层面需要1.5到2台EUV光刻机。

也就是说，无论是生产储存芯片还是非储存芯片都在用EUV光刻机，这说明EUV技术正在普及，自然就需要更多EUV光刻机。

最后，ASML提速也是为了实现自由出货。

EUV光刻机是ASML营收和利润的主要贡献者，毕竟其售价高，单台售价是DUV光刻机的好几倍。但是，ASML的EUV光刻机却不能自由出货，尽管ASML多次申请许可，甚至还发出了警告，结果依旧没有实现。

如今，EUV技术正在普及，储存芯片和非储存芯片的生产制造都在使用EUV光刻机，而ASML加速提升EUV光刻机的产能，自然能够加速EUV技术的普及。

也就是说，EUV技术普及和大量的EUV光刻机被生产制造出来，ASML或许就能够实现自由出货，因为普及的技术就不再是最先进的技术了。