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ASML的EUV光刻机研发制造出来后，其就不能自由出货，原因是《瓦尔森协议》的缘故，最先进的设备不能自由出货。

相比之下，DUV光刻机并非ASML最先进的设备，所以,DUV光刻机一直都能自由出货，ASML也曾表示，DUV光刻机出货一般情况下是不需要许可的。

从ASML方面的表态就能够看出来，只要EUV光刻机不再是最先的设备，其就可能自由出货。

ASML传来新消息，EUV光刻机自由出货不远了？

近日，ASML正式对外公布了新财报，其中有两个数据很关键，一个孔径值为0.33 和0.55的NA EUV光刻机获得大量订单；

另外一个NA EUV光刻机已经向英特尔等出货。

据了解，NA EUV光刻机是EUV光刻机升级版，其采用更高的曝光精度，可以将芯片缩小至2nm。同时，生产效率更高，每小时曝光晶圆超170片以上。

精度和效率提升的同时，NA EUV光刻机的售价也在上涨，单台价格超过3亿美元，尽管如此，英特尔、三星以及台积电等厂商仍积极下单购买。

也就是说，更先进的NA EUV光刻机已经出货了，那么，EUV光刻机自由出货不远了？

根据ASML的表态来看，新一代光刻机上线后，上一代EUV光刻机也将实现自由出货。但就目前而言，EUV光刻机要想实现自由出货，还需要以下几个条件中的任意一个即可。

首先，ASML拿到许可。

虽然NA EUV光刻机已经出货，EUV光刻机也不再是最先进的光刻机，但仍是生产制造7nm以下芯片的必要设备。消息称，美要在10nm以下芯片制造技术方面进行封锁，让先进的制程芯片技术仅掌握在少数企业手中。这就意味着，虽然EUV光刻机不再是最先进的设备，但在没有许可的情况下，ASML想实现自由出货还是比较难的。

其次，类似EUV光刻机的设备出现。

据悉，国内厂商突破的技术，美很快会允许其它厂商自由出货，就像华为自研了汽车芯片等产品后，美就批准了一项价值超1亿美元的汽车芯片等出货许可。也就是说，ASML即便是没有拿到EUV光刻机的出货许可，只要国内厂商推出了类似的产品或者世界上有其它国家推出了类似的产品，EUV光刻机也将实现自由出货。

就目前来看，这一天已经不远了，因为俄正在研发先进的X射线光刻机，佳能、尼康等老牌光刻机厂商正在联合搞突破。

还有就是，国内厂商在先进的光源技术、透膜技术等方面也取得了很大突破，为国产先进光刻机研发制造打下了基础。

最后，新技术的出现。

EUV光刻机主要是用于生产制造7nm芯片以下，一旦有新技术出现，EUV光刻机必然会自由出货。据悉，NIL工艺已经推出，2025年即可用于生产制造5nm芯片；光电芯片也被看作是硅芯片的替代者，荷兰已经计划投资11亿欧元研发该技术。

可以说，相应替代技术的出现，必然也加速实现EUV光刻机自由出货。

ASML本质上是想让EUV光刻机尽快自由出货的

虽然EUV光刻机还无法自由出货，，但ASML本质上是想让EUV光刻机尽快实现自由出货。

因为对ASML而言，实现EUV光刻机是百利而无一害的，不仅能够快速增加营收，实现300亿欧元的目标，还能拿下更多的市场，从而保证在这一领域内实现领先。

相反，ASML不能自由出货，只会加速其它厂商自研进度，或者开辟新的道路，所以ASML一直都在加大产能，并表达出反对限制出货的不满情绪。来源：商业经济观察